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澤攸電鏡兼顧效率與細節的電鏡

產品簡介

澤攸電鏡兼顧效率與細節的電鏡
在半導體行業,EM2000 可用于芯片表面的缺陷檢測,快速定位劃痕、污染等問題;在材料科學領域,能觀察復合材料的界面結構,分析相分布情況;在地質研究中,可識別礦物顆粒的微觀形態,輔助礦物鑒定。其高效的工作能力與精準的成像效果,為各領域的研究與生產提供了有力支持。

產品型號:
更新時間:2025-08-25
廠商性質:代理商
訪問量:51
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澤攸 電鏡在設計上注重提升工作效率,同時保持對細節的捕捉能力。電子槍采用 LaB6 燈絲,相較于傳統鎢燈絲,亮度提高約 5 倍,使用壽命延長至 2000 小時以上,減少了燈絲更換頻率,降低了維護成本。鏡筒內部關鍵部件采用鉬合金材料,耐高溫且穩定性好,適合長時間連續工作。澤攸電鏡兼顧效率與細節的電鏡
加速電壓范圍擴展至 2kV-40kV,束流穩定度優于 1.5%/h,確保在長時間測量過程中圖像質量的一致性。二次電子像分辨率在 30kV 時達到 3nm,背散射電子像分辨率 5nm,能清晰呈現納米級別的微觀結構。放大倍數覆蓋 100 倍 - 2000000 倍,滿足從宏觀到微觀的多尺度觀察需求。
樣品室采用大尺寸設計,直徑 200mm,高度 180mm,可容納更大尺寸的樣品或特殊樣品臺。配備全自動樣品臺,移動范圍 X/Y 100mm×100mm,定位精度 1μm,支持預設路徑自動測量,適合批量樣品的快速檢測。真空系統由機械泵與渦輪分子泵組成,抽氣時間短,從大氣到工作真空(≤5×10??Pa)僅需 6 分鐘。
操作界面采用觸控屏設計,配合鼠標鍵盤操作,軟件內置多種測量模板,如顆粒分析、線寬測量等,可自動識別并計算相關參數。使用時,通過樣品加載室快速更換樣品,無需破壞鏡筒真空,大幅縮短了樣品更換時間。
在半導體行業,可用于芯片表面的缺陷檢測,快速定位劃痕、污染等問題;在材料科學領域,能觀察復合材料的界面結構,分析相分布情況;在地質研究中,可識別礦物顆粒的微觀形態,輔助礦物鑒定。其高效的工作能力與精準的成像效果,為各領域的研究與生產提供了有力支持。澤攸電鏡兼顧效率與細節的電鏡



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