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澤攸 ZEM15:小型科研團隊顯微分析工具

產品簡介

澤攸 ZEM15:小型科研團隊顯微分析工具
對于經費有限、空間緊張的小型科研團隊或初創企業,澤攸臺式掃描電子顯微鏡 ZEM15 以其高性價比與易維護性,成為微觀分析工作的實用工具,助力完成基礎科研與產品研發中的顯微觀察任務。

產品型號:
更新時間:2025-08-25
廠商性質:代理商
訪問量:57
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澤攸 ZEM15:小型科研團隊顯微分析工具


對于經費有限、空間緊張的小型科研團隊或初創企業,澤攸臺式掃描電子顯微鏡 ZEM15 以其高性價比與易維護性,成為微觀分析工作的實用工具,助力完成基礎科研與產品研發中的顯微觀察任務。
產品細節
ZEM15 的機身設計注重實用性,無復雜的附加功能,核心操作集中在觸控屏與少數實體按鍵上,科研人員無需專業操作資質即可快速上手。樣品室配備可拆卸樣品臺,支持多種規格樣品固定(如圓形樣品座、薄片樣品夾),適配金屬粉末、半導體芯片、生物切片等不同類型樣品。設備內置小型真空機組,開機后自動完成抽真空流程,無需外接真空管道,簡化實驗室布局;真空系統設有保護功能,若樣品室密封不良,會自動停止抽真空并報警,避免設備損壞。機身背部設有散熱風扇與防塵濾網,長時間連續工作(如 4 - 6 小時)也能保持機身溫度穩定,減少因過熱導致的故障。此外,設備支持遠程控制功能,可通過電腦軟件連接設備,實現圖像采集與參數調節,方便科研人員在通風櫥外操作揮發性樣品。
產品性能
ZEM15 的性能可滿足小型科研團隊的基礎顯微分析需求。其二次電子圖像分辨率能清晰呈現納米級別的表面細節,如觀察納米涂層的顆粒分布、半導體材料的表面缺陷等;背散射電子圖像可區分樣品的成分差異,輔助分析材料的元素分布(需配合能譜儀時,設備預留能譜儀接口,可后期升級)。加速電壓調節范圍寬,低電壓(0.5 - 5kV)適合觀察易損傷樣品(如生物組織、高分子材料),高電壓(10 - 15kV)適合高分辨率觀察金屬、陶瓷等硬質材料。放大倍數覆蓋從宏觀到微觀的觀察需求,低倍觀察可快速定位樣品特征區域,高倍觀察能深入分析細節結構,且圖像畸變較小,數據可靠性較好。此外,設備具備圖像拼接功能,可將多個局部圖像拼接成大面積全景圖像,適合分析樣品的整體形貌與分布規律。
用材講究
為適應科研場景的長期使用需求,ZEM15 的樣品室門密封采用耐老化的硅橡膠密封圈,確保長期使用后的真空密封性;樣品臺采用耐腐蝕的鈦合金材質,減少樣品與樣品臺的化學反應,尤其適合觀察金屬腐蝕樣品。電子光學系統的透鏡組件采用無氧銅材質,具備良好的導熱性與導電性,減少電子束偏轉誤差;探測器窗口采用超薄氮化硅膜,提高信號采集效率,保障圖像質量。內部電路選用工業級電子元件,在電壓波動(±10%)環境下仍能穩定工作,減少因供電不穩定導致的設備故障;真空機組的泵體采用耐磨材料,使用壽命可達 5000 小時以上,降低維護成本。
參數詳情
參數項
具體數值
分辨率
二次電子圖像:3.0nm(30kV),背散射電子圖像:5.0nm(30kV)
加速電壓
0.5 - 15kV,步長 0.1kV
放大倍數
20 - 100000 倍,連續可調
樣品室真空度
高真空模式:≤5×10??Pa,低真空模式:10 - 200Pa(可選)
樣品臺類型
可拆卸式,支持 X/Y 軸手動微調,行程 10mm×10mm
電子槍壽命
鎢燈絲:100 - 200 小時(正常使用)
圖像功能
支持實時掃描、靜態拍照、圖像拼接、亮度 / 對比度調節
擴展接口
預留能譜儀(EDS)接口、二次電子探測器升級接口
數據存儲
本地可存儲 1000 組圖像,支持 USB 導出
電源要求
220V±10%,50Hz,功率≤1000W
工作環境
溫度 18 - 28℃,相對濕度 25% - 65%(無冷凝)
廣泛用途
在新材料研發團隊中,ZEM15 可用于觀察納米復合材料的顆粒分散情況、涂層的表面均勻性,為材料配方優化提供微觀數據;在小型電子企業的研發中,能檢測芯片封裝的引線鍵合質量、印刷電路板的線路缺陷,輔助改進生產工藝;在生物醫學初創團隊中,可觀察醫用支架的表面形貌、細胞在材料表面的黏附狀態,為醫療器械研發提供參考;此外,在文物修復研究中,還能分析文物表面的顏料層結構、腐蝕產物形態,助力制定科學的修復方案。
使用說明
安裝時,需確保實驗室地面平整,工作臺承重能力≥80kg,設備周圍預留至少 30cm 空間用于散熱與操作。開機前,檢查設備電源、數據線連接是否正常,清理樣品室內部灰塵,確保樣品室門密封良好。根據樣品類型準備樣品:導電性樣品(如金屬、半導體)可直接固定;絕緣樣品需用噴金儀噴涂 5 - 10nm 厚的金屬層(如金、鉑),防止電子積累導致圖像失真;生物樣品需經過冷凍干燥或臨界點干燥處理,避免真空環境下樣品變形。將樣品固定在樣品臺上,放入樣品室,關閉樣品室門,在觸控屏上啟動抽真空程序,待真空度達到設定值(高真空模式適用于高分辨率觀察,低真空模式適用于易揮發樣品)。選擇探測器類型(二次電子探測器用于表面形貌觀察,背散射電子探測器用于成分差異分析),設置加速電壓與放大倍數,啟動掃描后調節聚焦旋鈕,直至圖像清晰;若需高倍觀察,可逐步提高放大倍數,同時微調聚焦與 astigmatism(像散校正)。觀察過程中,可通過觸控屏保存圖像,或通過電腦軟件實時記錄數據。實驗結束后,先停止掃描,啟動樣品室放氣程序,待氣壓恢復常壓后取出樣品。關閉設備電源前,需等待真空機組停止工作(約 5 分鐘)。日常維護中,每周清潔一次防塵濾網,每月檢查樣品室密封圈是否老化,每季度更換一次真空系統的濾芯;若發現圖像模糊、真空度無法達標等問題,及時聯系專業人員檢修,避免自行拆解設備。

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技術參數




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