在納米材料研發(fā)、薄膜技術(shù)研究、生物醫(yī)用材料設(shè)計等科研領(lǐng)域，對材料表面微觀 3D 結(jié)構(gòu)的精準(zhǔn)分析是揭示材料性能機(jī)制的關(guān)鍵，Sensofar 3D 共聚焦白光干涉儀 S neox 憑借高分辨率測量能力與靈活的實驗適配性，成為科研團(tuán)隊探索納米尺度結(jié)構(gòu)的實用工具，為材料研發(fā)提供從形貌觀察到數(shù)據(jù)量化的全流程支持。
一、產(chǎn)品細(xì)節(jié)：科研級設(shè)計適配實驗需求
S neox（3D 共聚焦白光干涉儀）在結(jié)構(gòu)設(shè)計上充分考慮科研場景的多樣性，機(jī)身采用模塊化組裝方式，核心光學(xué)模塊、樣品臺模塊與控制模塊可獨立拆卸，便于根據(jù)實驗需求進(jìn)行定制化改造，例如加裝高溫樣品臺、低溫樣品臺或電學(xué)測試附件，實現(xiàn)原位環(huán)境下的 3D 輪廓測量。機(jī)身尺寸與基礎(chǔ)款保持一致（600mm×500mm×750mm），重量 70kg，可輕松融入高校實驗室、科研院所的實驗平臺，無需專門改造場地。
光學(xué)系統(tǒng)的防護(hù)等級提升至 IP54，能有效抵御實驗室常見的粉塵與少量濺水，適合長期處于開放實驗環(huán)境中的使用需求。鏡頭接口除兼容基礎(chǔ)款的 6 種倍率物鏡外，還支持適配特種物鏡（如長工作距離物鏡、偏光物鏡），長工作距離物鏡（工作距離 10mm）可用于測量帶有復(fù)雜附件的樣品（如生長中的薄膜樣品），偏光物鏡則能結(jié)合偏光技術(shù)分析材料的光學(xué)各向異性，拓展實驗研究維度。
樣品臺在基礎(chǔ)款電動控制的基礎(chǔ)上，新增 “手動微調(diào)" 模式，當(dāng)科研人員需要對特定微觀區(qū)域進(jìn)行精準(zhǔn)定位時，可通過旋鈕進(jìn)行微米級微調(diào)，搭配樣品臺自帶的刻度標(biāo)尺（精度 0.01mm），能快速記錄樣品測量位置，便于后續(xù)重復(fù)實驗驗證。操作界面除 15.6 英寸觸控屏外，還支持外接專業(yè)繪圖板，方便科研人員在測量圖像上標(biāo)注特征區(qū)域，直接在軟件中完成數(shù)據(jù)分析標(biāo)注，減少后期處理工作量。
二、產(chǎn)品性能：高分辨率支撐納米尺度分析
S neox（3D 共聚焦白光干涉儀）的共聚焦模塊經(jīng)過科研級優(yōu)化，采用高穩(wěn)定性 LED 白光光源，光譜輸出波動范圍控制在 ±2% 以內(nèi)，確保長期實驗中光源強(qiáng)度的一致性，避免因光源波動導(dǎo)致的測量數(shù)據(jù)偏差。搭配背照式 CMOS 圖像傳感器（200 萬像素，1920×1080），傳感器的量子效率提升至 70%（450nm～650nm 波段），能捕捉到更微弱的反射光信號，適合測量低反射率的納米材料（如二氧化硅薄膜、碳納米管薄膜），橫向分辨率保持 0.12μm（100x 物鏡），可清晰呈現(xiàn)納米顆粒的團(tuán)聚狀態(tài)、納米線的直徑分布。
白光干涉模塊的算法進(jìn)行了科研級升級，新增 “動態(tài)干涉條紋分析" 功能，可實時記錄干涉條紋的變化過程，結(jié)合軟件的相位解包裹算法，縱向測量分辨率進(jìn)一步優(yōu)化至 0.05nm，測量范圍覆蓋 0.5nm～10mm，既能精準(zhǔn)測量納米級薄膜的厚度（如 10nm 厚度的金屬薄膜），也能分析毫米級臺階的高度差（如微流控芯片的通道深度）。在納米材料研究中，可通過該模塊量化分析納米顆粒的粒徑分布（誤差 ±2%）、納米薄膜的表面起伏度（PV 值，峰值與谷值之差），為材料性能與微觀結(jié)構(gòu)的關(guān)聯(lián)研究提供量化數(shù)據(jù)。
設(shè)備還具備 “時間序列測量" 功能，科研人員可設(shè)置固定時間間隔（最小 10 秒 / 次），對同一區(qū)域進(jìn)行連續(xù) 3D 輪廓測量，記錄材料在外界刺激（如溫度變化、光照照射）下的結(jié)構(gòu)動態(tài)變化，例如觀察納米涂層在加熱過程中的表面收縮情況、水凝膠材料在吸水過程中的膨脹速率，為材料動態(tài)性能研究提供直觀的 3D 結(jié)構(gòu)演變數(shù)據(jù)。
三、用材與參數(shù)：科研級部件保障數(shù)據(jù)可靠性
核心光學(xué)部件選用科研級材料，光學(xué)鏡頭采用超低色散氟冕玻璃，相較于基礎(chǔ)款的低色散玻璃，氟冕玻璃能進(jìn)一步減少不同波長光線的色散差異，在全光譜范圍（450nm～650nm）內(nèi)保持一致的成像分辨率，避免因波長差異導(dǎo)致的測量誤差，尤其適合對多波長光學(xué)特性敏感的材料研究（如光子晶體材料）。鏡頭鍍膜采用離子輔助鍍膜技術(shù)，膜層附著力提升 30%，長期使用后不易出現(xiàn)膜層脫落，保障光學(xué)性能穩(wěn)定性。
樣品臺導(dǎo)軌采用陶瓷材料，陶瓷導(dǎo)軌的熱膨脹系數(shù)僅為 1.5×10??/℃，遠(yuǎn)低于金屬導(dǎo)軌，在溫度波動較大的實驗室環(huán)境中（如晝夜溫差 5℃），仍能保持 ±0.05μm 的移動精度，避免溫度變化導(dǎo)致的樣品定位偏差。測量軟件內(nèi)置 “數(shù)據(jù)溯源" 功能，每次測量會自動記錄設(shè)備狀態(tài)參數(shù)（如光源強(qiáng)度、物鏡倍率、環(huán)境溫度），并與測量數(shù)據(jù)綁定保存，便于科研人員后期追溯實驗條件，確保實驗結(jié)果的可重復(fù)性與可驗證性。
以下為 S neox（3D 共聚焦白光干涉儀）的科研場景核心參數(shù)表：
四、用途與使用說明：覆蓋多領(lǐng)域科研需求
S neox（3D 共聚焦白光干涉儀）在科研領(lǐng)域的用途廣泛，在納米材料研發(fā)中，可用于碳納米管薄膜的表面粗糙度測量（Ra 值）、量子點薄膜的厚度均勻性分析，判斷制備工藝（如旋涂速度、退火溫度）對材料微觀結(jié)構(gòu)的影響；在薄膜技術(shù)研究中，能監(jiān)測薄膜生長過程中的厚度變化（如原子層沉積薄膜的逐層生長），計算薄膜生長速率，優(yōu)化生長參數(shù)；在生物醫(yī)用材料設(shè)計中，可分析支架材料的孔隙結(jié)構(gòu)（孔徑大小、孔隙率），評估材料與細(xì)胞的相容性；在能源材料研究中，能觀察電池電極材料的表面形貌變化（如充放電循環(huán)后的電極膨脹），揭示電池性能衰減機(jī)制。
科研場景下的使用說明如下：首先根據(jù)研究目標(biāo)確定測量方案，若進(jìn)行原位高溫測量，需提前安裝高溫樣品臺并連接溫度控制器，將溫度校準(zhǔn)至實驗所需范圍（如 200℃），保溫 30 分鐘確保溫度穩(wěn)定；然后制備樣品，納米材料樣品需進(jìn)行清潔處理（如超聲清洗去除表面雜質(zhì)），薄膜樣品需固定在專用載玻片上，確保樣品表面平整無褶皺；打開設(shè)備電源與科研版測量軟件，軟件會自動檢測外接附件狀態(tài)（如高溫樣品臺是否連接正常），確認(rèn)無誤后進(jìn)入?yún)?shù)設(shè)置界面，選擇 “科研模式"，設(shè)置物鏡倍率（如 50x 用于納米顆粒觀察）、測量區(qū)域（如 200μm×200μm）、測量模式（共聚焦 + 白光干涉同步采集）；點擊 “自動對焦" 后，軟件會自動掃描樣品表面，生成對焦清晰度曲線，科研人員可根據(jù)曲線選擇優(yōu)良對焦平面，確保測量區(qū)域的清晰度；啟動測量后，設(shè)備會同步采集 2D 共聚焦圖像與 3D 干涉數(shù)據(jù)，時間序列測量需額外設(shè)置測量次數(shù)與間隔時間；測量完成后，軟件自動生成 3D 輪廓模型、表面參數(shù)報告（Ra、Rq、PV）與數(shù)據(jù)原始文件，科研人員可直接導(dǎo)出原始數(shù)據(jù)用于后續(xù)建模分析（如導(dǎo)入有限元分析軟件），也可在軟件中進(jìn)行數(shù)據(jù)統(tǒng)計（如納米顆粒粒徑分布直方圖）。
使用過程中需注意，原位實驗前需進(jìn)行 3 次空白實驗，驗證附件對測量精度的影響；測量低反射率樣品時，需在軟件中開啟 “弱信號增強(qiáng)" 功能，提升圖像信噪比；設(shè)備每次更換實驗環(huán)境后，需進(jìn)行 1 小時預(yù)熱，待光學(xué)系統(tǒng)穩(wěn)定后再開始測量，確保數(shù)據(jù)一致性。
五、型號特點：科研適配性突出
作為 Sensofar 針對科研領(lǐng)域推出的 3D 共聚焦白光干涉儀，S neox 的核心優(yōu)勢在于科研級的性能穩(wěn)定性與實驗適配性。其高分辨率測量能力能滿足納米尺度的精細(xì)分析需求，時間序列測量、原位附件兼容等功能則為動態(tài)實驗、環(huán)境敏感實驗提供可能；原始數(shù)據(jù)導(dǎo)出功能支持與各類科研分析軟件兼容，便于科研人員進(jìn)行深度數(shù)據(jù)挖掘，為論文發(fā)表提供可靠的數(shù)據(jù)支撐。
同時，設(shè)備的操作門檻保持適中，科研團(tuán)隊中的研究生經(jīng)過 1～2 次培訓(xùn)即可獨立完成基礎(chǔ)測量，資深研究人員則可通過定制化改造拓展實驗維度，兼顧了團(tuán)隊不同人員的使用需求。無論是探索納米材料的微觀結(jié)構(gòu)機(jī)制，還是優(yōu)化功能材料的制備工藝，S neox 都能以精準(zhǔn)的 3D 分析能力，成為科研團(tuán)隊推進(jìn)研究進(jìn)展的實用助手。
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