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澤攸全自動臺階儀:檢測核心設備

產品簡介

澤攸全自動臺階儀:檢測核心設備
在半導體封裝、光學元件加工、精密模具制造等對測量精度與效率要求更高的場景中,手動調節(jié)的臺階儀已難以滿足批量檢測與精細測量需求,澤攸全自動臺階儀 JS2000B 憑借全自動化操作、高分辨率測量能力與穩(wěn)定的運行表現(xiàn),成為中檢測場景的實用工具,為工業(yè)生產與科研實驗提供精準的臺階高度、薄膜厚度等數(shù)據(jù)支持。

產品型號:JS3000B
更新時間:2025-09-03
廠商性質:代理商
訪問量:26
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澤攸全自動臺階儀:檢測核心設備

在半導體先進制程、航空航天精密部件、量子器件研發(fā)等對測量精度與功能復雜度要求的場景中,常規(guī)全自動臺階儀已難以滿足多維度、高動態(tài)的檢測需求,澤攸全自動臺階儀 JS3000B 憑借原子級測量分辨率、全場景適配能力與智能化分析功能,成為檢測場景的核心設備,為前沿制造與科研提供從微觀形貌到數(shù)據(jù)深度分析的全流程支持。
一、產品細節(jié):配置適配復雜需求
JS3000B 采用高剛性臺式結構,整體尺寸優(yōu)化為 550mm×450mm×500mm,重量 60kg,機身框架選用航空級鋁合金材質,經過整體壓鑄與時效處理消除內應力,結構穩(wěn)定性較傳統(tǒng)鋼材提升 40%,能有效抵御外界震動(如車間設備運行、實驗室人員走動)對測量精度的影響,即使在多設備集中的車間環(huán)境中,也能保持穩(wěn)定運行。
二、產品性能:原子級精度與多維度分析
JS3000B 突破傳統(tǒng)接觸式測量局限,采用 “接觸式電感 + 光學干涉" 雙測量原理融合設計,可根據(jù)樣品特性靈活切換測量模式:接觸式模式適合高硬度、高粗糙度樣品(如金屬部件、陶瓷涂層),光學干涉模式適合低硬度、易損傷樣品(如生物薄膜、納米級光刻膠),雙模式切換時間≤2 秒,無需手動更換部件,大幅提升檢測效率。
在測量穩(wěn)定性方面,JS3000B 內置 “三重溫度補償" 系統(tǒng):環(huán)境溫度補償(10℃-40℃范圍內)、設備自身溫度補償(電機、傳感器發(fā)熱導致的、樣品溫度補償(通過外接溫度傳感器實時監(jiān)測樣品溫度,長期穩(wěn)定性(24 小時連續(xù)運行)確保批量樣品或長時間實驗的數(shù)據(jù)一致性。
測量效率與智能化功能顯著提升:支持 “多路徑并行測量",可同時預設 10 條獨立測量路徑(如不同區(qū)域的線性掃描、多點采樣、面掃描),設備按優(yōu)先級自動完成測量,單個 200mm×150mm 樣品的全區(qū)域檢測時間較 JS2000B 縮短 40%;內置 AI 輔助測量功能,可自動識別樣品邊緣、缺陷區(qū)域(如劃痕、氣泡),智能規(guī)劃測量路徑,減少無效測量時間,例如檢測半導體晶圓時,AI 可自動跳過無芯片區(qū)域,僅對有效 Die 進行測量,效率提升 30% 以上。
三、用材與參數(shù):核心部件保障性能
JS3000B 的關鍵部件均選用全球頂尖供應商產品,確保性能穩(wěn)定:電感傳感器采用瑞士 Kistler 進口元件,測量信號信噪比≥100dB,能捕捉測針的納米級微小位移;光學干涉模塊采用美國 Zygo 進口干涉物鏡,波長穩(wěn)定性 ±0.001nm,,確保光學模式下的測量精度。
樣品臺導軌采用陶瓷材質(熱膨脹系數(shù) 1.5×10??/℃),表面經過等離子體拋光處理,長期使用后無明顯磨損,使用壽命可達 30 萬小時以上;驅動電機選用日本安川進口伺服電機,運行噪音≤45dB,具備扭矩保護與位置鎖定功能,當遇到障礙物時可在 0.01 秒內停止,保護設備與樣品安全(如避免測針碰撞堅硬樣品)。
設備數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)采用 24 位高精度 AD 轉換器,采樣頻率達 10MHz,能快速捕捉測針或干涉信號的微小變化,避免數(shù)據(jù)丟失;存儲模塊標配 1TB 工業(yè)級固態(tài)硬盤(讀寫速度≥500MB/s),可存儲 10 萬組以上完整測量數(shù)據(jù)(含原始信號、圖像、分析報告),支持數(shù)據(jù)加密與權限管理,滿足科研數(shù)據(jù)保密或工業(yè)質量追溯需求。
以下為 JS3000B 的核心參數(shù)表:
參數(shù)類別
具體參數(shù)
型號
JS3000B(全自動臺階儀)
測量原理
接觸式電感測量 + 光學干涉測量(雙模式)
測量范圍(Z 軸)
0-5000μm
測量分辨率
0.0001μm(100pm)
縱向測量精度
≤0.001μm
長期穩(wěn)定性
≤0.005μm(24 小時連續(xù)運行)
樣品臺行程
X 軸 200mm,Y 軸 150mm,Z 軸 5000μm(全自動電動)
樣品臺定位精度
±0.005μm
樣品固定方式
真空吸附 / 靜電吸附 / 機械夾具(三模式)
測量速度
接觸式:約 0.5 秒 / 次;光學式:約 1 秒 / 次
數(shù)據(jù)輸出格式
TXT、Excel、PDF、CAD、MATLAB、Origin
電源要求
AC 220V±5%,50/60Hz,300W(需穩(wěn)壓電源)
工作環(huán)境
溫度 10℃-40℃,濕度 20%-80%(無冷凝);防靜電 10?-10?Ω
設備重量
60kg
外形尺寸
550mm×450mm×500mm
四、用途與使用說明:覆蓋檢測場景(含應用案例)
JS3000B 的用途聚焦制造與前沿科研,以下為兩個典型應用案例:
案例 1:半導體 7nm 制程芯片金屬布線測量
某半導體芯片廠需檢測 7nm 制程芯片的金屬布線高度(設計值 120nm±0.5nm)與線寬均勻性(設計值 80nm±1nm),傳統(tǒng)設備難以同時滿足高度與線寬的高精度測量需求。引入 JS3000B 后,采用 “接觸式 + 光學式" 雙模式測量:接觸式模式測量布線高度,通過 AI 自動識別布線區(qū)域,預設 200 個測量點,設備 15 分鐘內完成整片 12 英寸晶圓的高度檢測,測光學干涉模式測量線寬,利用干涉條紋分析布線邊緣輪廓,線寬測量同時生成布線高度與線寬的 2D 輪廓圖、3D 分布圖,數(shù)據(jù)通過以太網實時上傳至芯片廠 MES 系統(tǒng),不合格區(qū)域自動標記坐標,助力工藝工程師優(yōu)化光刻與蝕刻參數(shù),芯片良率提升 8%。
五、型號特點:檢測的核心支撐
作為澤攸臺階儀系列的旗艦型號,JS3000B 的核心優(yōu)勢在于 “原子級精度"“全場景適配" 與 “智能化分析"。其雙測量模式設計,解決了不同材質樣品的檢測難題;三重溫度補償與高剛性結構,確保環(huán)境下的測量穩(wěn)定性;AI 輔助與數(shù)據(jù)聯(lián)動功能,能融入制造的全流程質量管控與科研的數(shù)據(jù)閉環(huán)體系。
無論是半導體先進制程的質量控制,還是航空航天部件的性能保障,亦或是前沿科研的微觀分析,JS3000B 都能以頂尖的性能與可靠的表現(xiàn),成為檢測場景的核心設備,助力用戶突破技術瓶頸,推動制造與科研創(chuàng)新的發(fā)展。

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